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- 思恩半导体科技（苏州）有限公司
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生瓷片冲腔机
用途：该设备用于带框生瓷片冲腔工艺，具有自动上下料、自动定位，自动冲切等功能，满足LTCC、HTCC中冲切工艺需求。
TIME: 2024-12-12
全自动清洗设备（新材料）
随着半导体行业发展，砷化镓、磷化铟等二代半导体化合物材料、氮化镓、碳化硅等三代宽禁带半导体材料，对于湿化学清洗工艺提出了新要求。在配置传统独立湿处理工艺槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基础上，新材料清洗设备按照客户工艺菜单进行优化设置，配液精度、配液种类、清洗方式方面进行设计提升，同时保持与行业厂商、学校研究院所的积极联合探索和设备定制。
TIME: 2024-10-11
半自动湿处理设备
有不同的独立湿处理工艺槽、按照客户工艺菜单的设置，机械手在各工艺槽中进行相应的工艺处理。适合用于基片批量的腐蚀/去胶/显影/清洗等工艺.
TIME: 2024-10-11
自动供液系统
自动供液系统可以通过VMB给多台设备进行供液。具有过滤、循环功能，根据用户要求配备双组或者多组过滤、循环系统；当其中一个桶内的液体用完时，能够自动进行双桶切换并且提示用户。同时还具备化学液的取样检测功能。
TIME: 2024-10-11
温等静压机
该设备用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加压作业，最 大压力80MPa，最大直径600，最小230
TIME: 2024-10-11
全自动叠层机
全自动叠层机是用于生瓷片叠片的设备，具备自动上下料、自动切片、自动撕膜、自动对位、真空叠压等功能，广泛应用于LTCC、HTCC、MLCC等领域。
TIME: 2024-10-12
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等离子清洗机的作用是什么
2025-04-29等离子清洗机是一种利用等离子体技术对物体表面进行处理的设备，其作用主要包括以下几个方面： 1.表面清洁 去除有机污染物：能有效去除物体表面的油脂、油污、指纹、光刻胶等有机杂质。等离子体中的高能粒子与有机污染物发生化学反应，将其分解为二氧化碳、水等小分子物质，从而达到清洁表面的目的。
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化学品通风柜应用在哪些行业
2025-04-22化学品通风柜是一种用于实验室等场所，通过通风系统将有害气体、蒸汽、粉尘等污染物排出室外，以保护实验人员健康和实验室环境的设备。它广泛应用于以下行业： 1.化学化工行业 研发实验室：在化学化工产品的研发过程中，科研人员需要进行各种化学反应实验，会使用到多种化学品，产生有害气体。通风柜能及时排出这些有害气体，确保实验人员的安全和实验环境的稳定。
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介绍一下全自动硅片清洗机
2025-04-15全自动硅片清洗机是一种用于半导体硅片清洗的专业设备，以下从其结构、原理、特点和应用等方面进行介绍： 1.结构组成 清洗槽：通常采用耐腐蚀的材料制成，是容纳清洗液和硅片的主要部件，内部设有不同的区域，用于完成不同的清洗步骤，如预清洗、主清洗、漂洗等。
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