
半自动叠层机采用人工上下料、机器自动对位堆叠 / 热压的工作模式,兼顾设备成本与叠层精度,非常适合多品种、小批量、研发打样及中试产线,是柔性电子领域薄膜多层复合、柔性器件组装的核心工艺设备,广泛用于柔性显示、FPC 柔性线路板、柔性传感、软包锂电等赛道。

半自动湿处理设备多用于 PCB、光学玻璃、半导体基板、光伏基板的清洗、蚀刻、显影、去胶、剥离、微蚀等湿法化学工艺。核心特征:人工完成上下料,药液循环、温控、喷淋 / 浸泡、漂洗、风干、时序流程由设备自动执行,人工仅负责将载具(料篮 / 片架)放入槽体或取出,中间工艺步骤全自动按配方运行。

温等静压机成型完成后,泄压降温是保障坯体品质、设备安全的关键工序,操作不当极易造成坯体开裂、分层、鼓包,甚至引发高压安全事故。 一、温度控制要点 1. 严禁快速降温。需要按照工艺曲线匀速降温,坯体、胶套、腔体内部存在温差,骤冷会使坯体产生巨大热应力,出现裂纹、崩缺;弹性模具也会因为急剧收缩发生变形损坏。

1. 冲切模具组件(冲头、凹模) 冲头与凹模是决定腔孔尺寸的核心零部件。冲头加工公差、磨损、崩缺会直接带来腔孔偏大、轮廓变形;凹模型腔尺寸、内壁磨损、刃口崩损,会造成孔位尺寸超差、内壁毛刺。冲头‑凹模配合间隙不合理,间隙过大出现塌边、扩孔;间隙过小容易发生啃模,尺寸波动。模具材料、热处理品质决定模具磨损速度,长期量产之后模具磨损,精度会逐步衰减。

全自动硅片清洗机(槽式 / 单片式湿法清洗设备)广泛用于半导体芯片、功率器件、光伏硅片生产,完成硅片表面颗粒、有机物、金属离子、自然氧化层、光刻胶残留去除,是半导体湿制程关键设备。