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用途：该设备用于带框生瓷片冲腔工艺，具有自动上下料、自动定位，自动冲切等功能，满足LTCC、HTCC中冲切工艺需求。
随着半导体行业发展，砷化镓、磷化铟等二代半导体化合物材料、氮化镓、碳化硅等三代宽禁带半导体材料，对于湿化学清洗工艺提出了新要求。在配置传统独立湿处理工艺槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基础上，新材料清洗设备按照客户工艺菜单进行优化设置，配液精度、配液种类、清洗方式方面进行设计提升，同时保持与行业厂商、学校研究院所的积极联合探索和设备定制。
有不同的独立湿处理工艺槽、按照客户工艺菜单的设置，机械手在各工艺槽中进行相应的工艺处理。适合用于基片批量的腐蚀/去胶/显影/清洗等工艺.
思恩半导体是专业制造基于SEMI标准、具有国际CE认证、与国际先 进水平同步的基片湿处理系统、微电子自动化设备及相关零部件的企业。我们拥有美国和中国专利，并能为中国市场上制造与国外高科技同步的半导体设备而感到自豪。思恩生产的设备包括全自动/半自动/手动基片湿处理系统，异丙醇干燥机系统，化学供液系统，零部件清洗系统，多层陶瓷加工设备等。企业秉承BEST!(Better price更合理的价格, Excellent service更优 质的服务, Superior quality更出众的品质, Total solution全 方位的解决方案)。
More等离子清洗机是一种利用等离子体技术对物体表面进行处理的设备，其作用主要包括以下几个方面： 1.表面清洁 去除有机污染物：能有效去除物体表面的油脂、油污、指纹、光刻胶等有机杂质。等离子体中的高能粒子与有机污染物发生化学反应，将其分解为二氧化碳、水等小分子物质，从而达到清洁表面的目的。
2025-04-29⇀
化学品通风柜是一种用于实验室等场所，通过通风系统将有害气体、蒸汽、粉尘等污染物排出室外，以保护实验人员健康和实验室环境的设备。它广泛应用于以下行业： 1.化学化工行业 研发实验室：在化学化工产品的研发过程中，科研人员需要进行各种化学反应实验，会使用到多种化学品，产生有害气体。通风柜能及时排出这些有害气体，确保实验人员的安全和实验环境的稳定。
2025-04-22⇀
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